No. |
研究題目 |
共同研究者 |
新聞名 |
掲載日 |
3 |
−大阪産業大− 酸化亜鉛使い透明導電膜 太陽電池向け 高い耐湿・耐熱性 |
鈴木 晶雄 |
日刊工業産業新聞(P.10) |
2008.10.17 |
2 |
透明導電膜 酸化亜鉛で作製 ― 大阪産業大、透明性も向上 ―
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鈴木 晶雄 |
日経産業新聞(P.11) |
2008.8.25 |
1 |
ITO―太陽電池向け9割削減 ― 大産大、酸化亜鉛で代替 ―
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鈴木 晶雄 |
日経産業新聞(P.10) |
2007.10.5 |
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No. |
研究題目 |
共同研究者 |
雑誌名 |
発行日 |
4 |
「薄膜太陽電池の高効率及び低コスト化に繋がる新規の酸化亜鉛系透明導電膜の開発」 |
鈴木 晶雄 |
非公開型科技情報交換会『電子材料セション』B-1 |
200912/16 |
3 |
「薄膜太陽電池の高効率及び低コスト化に繋がる透明導電膜」 |
鈴木 晶雄 |
イノベーションジャパン2009『ナノテク・材料セション』PZ-18 |
2009/9/18 |
2 |
「Transparent Conductive Zinc Oxide Film New Light for Indium-free Solar Cells」 |
鈴木 晶雄 |
TECHNICAL FRONTIERS No.56 |
2009/3 |
1 |
大阪産業大学 鈴木晶雄研究室ZnO系透明導電膜の実用化を加速「省In/ 脱In化でユニークなソリューションを提案」 |
鈴木 晶雄 |
FPD Magazine FExpress “INTEVIW with Key Person” |
2007/11/1 |
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No. |
研究題目 |
共同研究者 |
JST採択プログラム名 |
採択年月 |
所管 |
1 |
「超廉価太陽電池の開発」
|
鈴木 晶雄 |
平成20年度重点地域研究開発プログラム地域イノベーション創出総合支援事業「シーズ発掘試験(A:発掘型)」 |
2008.8採択 |
独立行政法人 科学技術振興機構(JST) |
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No. |
標題 |
発表者名 |
会議名 |
発表年月 |
発表場所 |
27 |
「太陽電池用ZnO系透明導電膜★徹底解説」 |
鈴木 晶雄 |
電子ジャーナルの招聘講演 |
2009/12/16 |
東京都千代田区神田駿河台 総評会館 |
26 |
「希少金属を大幅に削減した酸化亜鉛系透明導電膜」 |
鈴木 晶雄 |
電気機能材料研究会の招聘講演 |
2009/4/24 |
東京錦糸町 電気機能材料工業会会議室 |
25 |
「透明導電膜の成膜技術の向上 〜酸化亜鉛(ZnO)系を中心として〜 」 |
鈴木 晶雄 |
情報機構『電気・電子系セミナー』 |
2009/4/17 |
東京都品川区立 総合区民会館 |
24 |
「酸化亜鉛(ZnO)透明導電膜、プラスチックフィルム基板へのZnO系透明導電膜の作製技術」 |
鈴木 晶雄 |
情報機構『電気・電子系セミナー』 |
2009/2/6 |
東京都品川区立 総合区民会館 |
23 |
「透明電極の最前線徹底検証 −透明電極成膜技術の最新動向− PLD法による酸化亜鉛系透明導電膜の成膜技術」 |
鈴木 晶雄 |
電子ジャーナル講演会 |
2008/11/13 |
東京都千代田区 総評会館 |
22 |
「低抵抗透明導電膜の材料・成膜技術とその評価」
|
鈴木 晶雄 |
技術情報協会『化学系セミナー』 |
2008/9/26 |
東京都品川区 総合区民会館 |
21 |
「酸化亜鉛系透明導電膜の開発動向と製品化の現状」
|
鈴木 晶雄 |
技術情報センター『エレクトロニクス材料セミナー』 |
2008/9/19 |
東京都千代田区 中央大学駿河台記念館 |
20 |
「ZnO系透明導電膜の基礎・応用,および最新の研究成果」
|
鈴木 晶雄 |
情報機構『電気・電子系セミナー』 |
2008/9/18 |
東京都中小企業振興公社 |
19 |
「大幅なコスト削減に繋がる太陽電池用酸化亜鉛系透明導電膜」
|
鈴木 晶雄 |
イノベーションジャパン2008, 科学技術振興機構新エネルギー・産業技術総合開発機構主催, 文部科学省, 経済産業省, 内閣府共催
|
2008/9/16〜18 |
東京国際フォーラム |
18 |
「ハイブリッド透明導電膜の開発」 −酸化亜鉛を用い太陽電池向けITOを9割削減−
|
鈴木 晶雄 |
住友ベークライト株式会社技術講演会 |
2008/4/11 |
住友ベークライト株式会社技術本部(尼崎) |
17 |
「大面積化・低抵抗化を目指すZnO系透明導電膜における成膜技術」
|
鈴木 晶雄 |
技術情報協会『電子系セミナー』 |
2008/3/26 |
東京都千代田区 中央大学駿河台記念館 |
16 |
「低抵抗ZnO系透明導電膜の作製とデバイス応用」
|
鈴木 晶雄 |
技術情報協会『電子系セミナー』 |
2008/1/23 |
東京都千代田区 中央大学駿河台記念館 |
15 |
「ハイブリッド透明導電膜の開発 −酸化亜鉛を用い太陽電池向けITOを9割削減」
|
鈴木 晶雄 |
高分子同友会研究会 |
2008/1/22 |
社団法人高分子学会 高分子同友会(東京) |
14 |
「ITO代替及びプラスチック基板への成膜:次世代に向けた要素技術がここに−プラスチック(有機)基板上への透明導電膜の作製技術−,〜ITOにおける諸問題とZnO系適用の長所・課題および克服〜」
|
鈴木 晶雄 |
情報機構『電子材料系セミナー』 |
2007/10/10 |
大阪府立労働センター |
13 |
「希少金属の使用を大幅に削減した酸化亜鉛系透明導電膜」
|
鈴木 晶雄, 中村 真貴, 村上真一郎 |
イノベーションジャパン2007, 科学技術振興機構新エネルギー・産業技術総合開発機構主催, 文部科学省, 経済産業省, 内閣府共催
|
2007.9.12〜14 |
東京国際フォーラム |
12 |
「低抵抗ZnO系透明導電膜の作製と応用展開」
|
鈴木 晶雄 |
技術情報協会『電子系セミナー』 |
2007/8/21 |
ゆうぽうと(東京) |
11 |
「酸化亜鉛(ZnO)系透明導電膜」
|
鈴木 晶雄 |
ザ・インクテック株式会社技術講演会 |
2007/8/21 |
ザ・インクテック株式会社技術本部(横浜) |
10 |
「低抵抗透明導電膜の材料・成膜技術とその評価」
|
鈴木 晶雄 |
技術情報協会『電子系セミナー』 |
2007/4/24 |
東京都港区 機械振興会館 |
9 |
透明導電膜の新たな問題点と新材料への展開を図る「透明導電膜の製膜・低抵抗化および材料(ITO・ZnO)の最新動向」
|
鈴木 晶雄 |
情報機構化学系セミナー |
2007/3/23 |
東京都品川区大井町 品川区立総合区民会館 |
8 |
「酸化亜鉛(ZnO)系透明導電膜」
|
鈴木 晶雄 |
株式会社尾池工業セミナー |
2007/3/19 |
株式会社尾池工業フロンティアセンター |
7 |
ZnO系透明導電膜の成膜ノウハウ、最近動向までも網羅「酸化亜鉛系透明導電膜」〜基礎・応用技術および実用化に向けての問題点とその解決法〜
|
鈴木 晶雄 |
情報機構電子系セミナー |
2007/3/6 |
大阪府立労働センター |
6 |
「In化合物の問題点とIn代替透明導電材料の開発」
「PLD法で作製したAZO、GZOの最も低比抵抗な透明導電膜」 |
鈴木 晶雄 |
独立行政法人学術振興会 透明酸化物光・電子材料大166委員会 |
2007/1/19 |
青山学院大学青山キャンパス内アイビーホール |
5 |
次世代に向けた各手法による材料薄膜化技術
「PLD(レーザーアブレーション)法による薄膜作製技術と長所と課題」 |
鈴木 晶雄 |
情報機構化学系セミナー |
2006/11/16 |
東京都品川区大井町 品川区立総合区民会館 |
4 |
PLD法による透明導電膜 −ITO代替材料を目指した酸化亜鉛系透明導電膜− |
鈴木 晶雄 |
TFT技術委員会 |
2006/11/11 |
東京都港区赤坂 TBS放送センター |
3 |
酸化亜鉛半導体の低温成膜技術と評価および光デバイスへの応用 |
鈴木 晶雄 |
技術情報協会化学系セミナー |
2006/11/6 |
大阪府立労働センター |
2 |
酸化亜鉛薄膜の大面積化技術と高品質発光デバイスへの応用
第1部 低抵抗ZnO系透明導電膜の作製と応用展開 |
鈴木 晶雄 |
技術情報協会電子系セミナー |
2006/9/21 |
東京都港区芝 機会振興会館 |
1 |
ZnO系透明導電膜における膜作製・低抵抗化技術と評価
§3.低抵抗透明導電膜の材料・成膜技術とその評価 |
鈴木 晶雄 |
技術情報協会電気電子系セミナー |
2006/6/23 |
東京都品川区大井町 品川区立総合区民会館 |
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No. |
研究題目 |
共同研究者 |
会議名 |
発表日 |
発表場所 |
受賞名称 |
10 |
キャリア抑制効果による高移動度、低キャリア密度酸化亜鉛系透明導電膜の作製
|
中村 吉伸, 青木 孝憲, 鈴木 晶雄, 松下 辰彦, 奥田 昌宏 |
平成21年電気関係学会関西支部連合大会 |
2009/11/8 |
大阪大学 |
講演奨励賞 |
9 |
高周波(RF)マグネトロンスパッタ法により作製した新型光ディスク基本技術の研究
|
長峯 優治, 青木 孝憲, 鈴木 晶雄, 松下 辰彦, 奥田 昌宏 |
平成21年電気関係学会関西支部連合大会 |
2009/11/8 |
大阪大学 |
講演奨励賞 |
8 |
超薄膜領域におけるPLD法で作製したガリウム添加酸化亜鉛透明導電膜 |
兼田真司, 青木 孝憲, 鈴木 晶雄, 松下 辰彦, 奥田 昌宏 |
第50回真空に関する連合講演会 |
2009/11/5 |
学習院大学 |
優秀ポスター賞 |
7 |
COP基板上に作製したAl添加ZnO透明導電膜 |
上野 優樹, 一井 直弥, 上西 俊道, 青木 孝憲, 鈴木 晶雄, 松下 辰彦, 奥田 昌宏 |
第49回真空に関する連合講演会 |
2008/10/29 |
くにびきメッセ |
優秀ポスター賞 |
6 |
PLD法により作製したモリブデン系酸化物光記録膜の光記録特性
|
三代 一真, 青木 孝憲, 鈴木 晶雄, 松下 辰彦, 奥田 昌宏 |
平成19年電気関係学会関西支部連合大会 |
2007/11/17 |
神戸大学 |
講演奨励賞 |
5 |
パルスレーザ堆積法により作製したAZO透明導電膜の超薄膜化
|
中村 真貴, 青木 孝憲, 鈴木 晶雄, 松下 辰彦, 奥田 昌宏 |
平成19年電気関係学会関西支部連合大会 |
200/11/17 |
神戸大学 |
講演奨励賞 |
4 |
パルスレーザー堆積法により作製した酸化物透明導電膜の超薄膜化
|
中村 真貴, 生田 公洋, 青木 孝憲, 鈴木 晶雄, 松下 辰彦, 奥田 昌宏 |
第48回真空に関する連合講演会 |
2007/11/15 |
学習院大学 |
優秀ポスター賞 |
3 |
PLD法によりスプリットターゲット法を用いて作製した酸化亜鉛系透明導電膜の仕事関数制御
|
吉田 和夫, 村上 真一郎, 安倉 秀明, 青木 孝憲, 鈴木 晶雄, 松下 辰彦, 奥田昌宏 |
平成18年電気関係学会関西支部連合大会 |
2006/11/25 |
大阪工業大学 枚方キャンパス |
講演奨励賞 |
2 |
シーディングアニール法を用いて作製した酸化亜鉛系透明導電膜
|
高瀬 康則, 安倉 秀明, 青木 孝憲, 鈴木 晶雄, 松下 辰彦, 奥田 昌宏 |
平成18年電気関係学会関西支部連合大会 |
2006/11/25 |
大阪工業大学 枚方キャンパス |
講演奨励賞 |
1 |
PLD法によるGZO透明導電膜の保護層付有機基板上への成膜
|
上原 賢二, 室中 正太, 道畑 良太, 安倉 秀明, 青木 孝憲, 鈴木 晶雄, 松下 辰彦, 奥田 昌宏, 太田 弘道 |
第47回真空に関する連合講演会 |
2006/11/6 |
大阪大学 コンベンションセンター |
優秀ポスター賞 |